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    型號(hào):
    RTP4-1200型全溫區(qū)快速退火爐

    描述:RTP4-1200型快速退火爐快速熱處理退火爐簡(jiǎn)稱 RTP(Rapid Thermal Processing Furnace),在吸收了生產(chǎn)制造工藝的基礎(chǔ)上自主研發(fā)了該款產(chǎn)品。該設(shè)備不但擁有極快的升溫速率200℃/S,而且在燒結(jié)工藝運(yùn)行完結(jié),直接將試樣在高溫區(qū)取出。實(shí)現(xiàn)物理狀態(tài)下的最快降溫。我們的工程師們巧妙地利用了冷壁工藝,在綠色節(jié)能環(huán)保的基礎(chǔ)上真正的實(shí)現(xiàn)了試樣的極速升降溫.多重保護(hù)功能,過溫報(bào)

    • 廠商性質(zhì)

      生產(chǎn)廠家
    • 更新時(shí)間

      2025-04-22
    • 訪問量

      687
    詳細(xì)介紹
    品牌其他品牌產(chǎn)地類別國產(chǎn)
    應(yīng)用領(lǐng)域環(huán)保,能源,電子/電池,航空航天,綜合

    RTP4-1200全溫區(qū)快速退火爐

    關(guān)鍵詞:快速退火爐,RTP, 200℃/S

    RTP4-1200型全溫區(qū)快速退火爐

     

    RTP4-1200型快速退火爐快速熱處理退火爐簡(jiǎn)稱 RTP(Rapid Thermal Processing Furnace),在吸收了生產(chǎn)制造工藝的基礎(chǔ)上自主研發(fā)了該款產(chǎn)品。該設(shè)備不但擁有極快的升溫速率200℃/S,而且在燒結(jié)工藝運(yùn)行完結(jié),直接將試樣在高溫區(qū)取出。實(shí)現(xiàn)物理狀態(tài)下的最快降溫。我們的工程師們巧妙地利用了冷壁工藝,在綠色節(jié)能環(huán)保的基礎(chǔ)上真正的實(shí)現(xiàn)了試樣的極速升降溫.多重保護(hù)功能,過溫報(bào)警,過熱報(bào)警,過熱自動(dòng)保護(hù),水壓報(bào)警,水壓異常自動(dòng)保護(hù)是材料研究的重要設(shè)備,目前在各大高校,科研院所及生產(chǎn)單位廣泛使用。

    一、RTP4-1200型快速退火爐應(yīng)用領(lǐng)域

    速熱退火 (RTA); 離子注入后退火

    石墨烯等氣象沉積,碳納米管等外延生長(zhǎng)

    快速熱氧化 (,RTO); 熱氮化 (RTN);

    硅化 (Silicidation);

    擴(kuò)散 (Diffusion);

    離子注入后退火 (Implant Annealing);

    電極合金化 (Contact Alloying);

    晶向化和堅(jiān)化 (Crystallization and Densification);

    化合物半導(dǎo)體:

    √LED芯片

    √光通訊芯片

    √射頻芯片

    √功率半導(dǎo)體芯片

    2.應(yīng)用的工藝:

    √離子注入后快速退火

    √ITO鍍膜后快速退火

    3.其他應(yīng)用領(lǐng)域:

    氧化物、氮化物生長(zhǎng)

    硅化物合金退火

    砷化鎵工藝

    歐姆接觸快速合金

    氧化回流

    其他快速熱處理工藝

    產(chǎn)品特點(diǎn):

    可測(cè)大尺寸樣品:可測(cè)單晶片樣品的尺寸為1-8英寸。

    壓力控制系統(tǒng)創(chuàng)新設(shè)計(jì):高精度控制壓力,以滿足不同的工藝要求。

    存儲(chǔ)熱處理工藝:方便工藝參數(shù)調(diào)取,提高實(shí)驗(yàn)效率,數(shù)據(jù)可查詢。

    快速升溫:最高升溫速率可達(dá)200/s。

    程序設(shè)定與氣路擴(kuò)展:可實(shí)現(xiàn)不同溫度段的精確控制,進(jìn)行降溫段的自動(dòng)轉(zhuǎn)接,并能夠?qū)に嚥藛芜M(jìn)行保存,方便調(diào)用。采用MFC精確控制氣體流量,最多可支持6路氣體,實(shí)現(xiàn)不同氣氛環(huán)境(真空、惰性氣氛、氧氣、氫氣、混合氣等)下的熱處理。

    全自動(dòng)智能控制:采用全自動(dòng)智能控制,包括溫度、時(shí)間、氣體流量、真空、冷卻水等均可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)控制。

    超高安全系數(shù):采用爐門安全溫度開啟保護(hù)、溫控器開啟權(quán)限保護(hù)以及設(shè)備急停安全保護(hù)三重安全措施,保障設(shè)備使用安全。

    分區(qū)控溫:分區(qū)域控制加熱功率,提高溫度均勻性。

     

    RTP4-1200型快速退火爐主要技術(shù)參數(shù):

     

    溫度范圍

    100 – 1300 ℃

    升溫速率

    2  —  200 ℃/秒可調(diào)

    密封石英腔內(nèi)面尺寸

    215 X 140X 14 毫米

    樣品最大尺寸

    4英寸

    計(jì)算機(jī)控制器

    PC 機(jī)控制,內(nèi)存 4G,500G硬盤,處理器:I3 以上及快速熱處理編程控制軟件RTP-500的控制軟件.
    可編程溫度曲線存儲(chǔ)1500 條以上, 每條曲線包括100段以上, 溫度設(shè)定范圍 25—1300℃ , 每段時(shí)間設(shè)定范圍1—30000 秒。數(shù)據(jù)可導(dǎo)出為文本文件便于數(shù)據(jù)處理。自動(dòng)優(yōu)化溫控。

    溫度設(shè)定范圍

    100-1300℃

    溫度重復(fù)性

    +/-1℃ 6區(qū)控溫

    測(cè)溫精確度

    100-1300全溫度段精度>0.5%

    測(cè)溫裝置

    K型熱電偶

    溫度曲線

    自動(dòng)記錄,保存,文本格式轉(zhuǎn)換,支持彩色分頁打印

    1000℃連續(xù)工作時(shí)間

    雙閉環(huán)溫度控制,穩(wěn)態(tài)溫度穩(wěn)定性±2℃ ,1000℃連續(xù)工作>1小時(shí)

    光源

    1.25KW X 13 鹵鎢燈

    電源

    380 V  40A 三相 四線(三火線, 零線),50/60Hz

    水源

    自來水或循環(huán)水, 水壓 1—3 kg / 平方厘米, 流量6-8升/分

    冷卻方式

    水冷,風(fēng)冷,氣冷

    安全裝置

    過溫報(bào)警,過熱報(bào)警,過熱自動(dòng)保護(hù),水壓報(bào)警,水壓異常自動(dòng)保護(hù)


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